成果信息

本发明涉及清洗领域。本发明公开了一种抛光后的光学零件的清洗方法，包括如下步骤:A1，将抛光后的光学零件的整个表面涂覆上保护漆，保护漆厚度为2-3毫米，等保护漆干燥后;A2，将光学零件放在溶剂油酒精混合液中浸泡2-4小时后;A3，将光学零件放入装有水基清洗剂的超声波清洗槽内进行超声波清洗25-30分钟:A4，将光学零件依次放入3个装有DI水的超声波清洗槽内各进行超声波清洗 5-10分钟;A5，将光学零件放入工业酒精中，进行超声波清洗5-10分钟;A6，将光学零件放在红外灯下烘烤 20-30分钟。本发明清洗效果好，合格率高，对光学零件无损伤，清洗效率高，操作简单，成本低，对环境污染小，安全性高。 )

背景介绍

本发明涉及清洗领域。本发明公开了一种抛光后的光学零件的清洗方法)

应用前景

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